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產(chǎn)品介紹：該裝置是一套采用單氣膜原位加壓的金剛石對(duì)頂砧壓腔，配合高強(qiáng)度殼體與小砧面壓砧，壓力可達(dá)400GPa
產(chǎn)品介紹：該裝置是一套采用單氣膜原位加壓的金剛石對(duì)頂砧壓腔，適宜在低溫環(huán)境進(jìn)行光學(xué)、XRD和磁學(xué)測(cè)量
產(chǎn)品介紹：該裝置適用于多款DAC壓機(jī)的原位加壓測(cè)試實(shí)驗(yàn)，可以在同步輻射線站進(jìn)行原位加壓測(cè)試，配合標(biāo)壓裝置使用，配合30MPa微型精密加壓泵站使用
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